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隨著(zhù)現代化產(chǎn)品要求越來(lái)越精細,生產(chǎn)部件的水質(zhì)也很高,普通純凈水已經(jīng)不能滿(mǎn)足生產(chǎn)要求。接下來(lái),常用的去離子水設備有哪些工藝流程?
一、去離子水設備工藝。
一種:預處理(即砂炭過(guò)濾器精密過(guò)濾器)反滲透混床工藝。這個(gè)方法是目前應用廣泛的,因為反滲透的投資成本不高,可以去除水中90%的離子,然后通過(guò)混床交換去除剩余的離子,這樣出水電導率可以在0.06左右。這是目前流行的方法。
二種:預處理與二種方法相同,只是后面用的混床換成EDI連續脫鹽膜塊,這樣就不用樹(shù)脂酸堿再生,而是用電再生。這使得整個(gè)過(guò)程完全無(wú)污染,處理后的水質(zhì)可達15M以上。但這個(gè)方法前期投入多,運營(yíng)成本低。
二.去離子水設備的工藝描述。
1.反滲透水處理設備與離子交換設備相結合,制備去離子水的基本工藝流程如下:
原水多介質(zhì)過(guò)濾器活性炭過(guò)濾器,過(guò)濾器反滲透設備混床純水箱過(guò)濾器用水點(diǎn)(特點(diǎn):污染少,自動(dòng)化程度高,初投資中等,適中價(jià)格)。
2.反滲透設備和EDI設備配套制備去離子水。這是一種制備超純水的新工藝,也是一種環(huán)保、經(jīng)濟、極具發(fā)展潛力的超純水制備工藝。其基本工藝流程如下:
原水多介質(zhì)過(guò)濾器活性炭過(guò)濾器過(guò)濾器反滲透設備 EDI)純水箱過(guò)濾器水點(diǎn)(特點(diǎn):環(huán)保、自動(dòng)化程度高、初投資大,價(jià)格比較貴)。
三.去離子水設備的應用范圍:
1.電子材料加工、單晶硅半導體、半導體材料、液晶顯示器、計算機硬盤(pán)、印刷電路板、集成電路。
2.醫藥化工行業(yè)、化工行業(yè)、食品工業(yè)行業(yè)用水。
3.汽車(chē)家電等高科技表面電泳漆清洗用水產(chǎn)品。